使用高模烘焙贴图为低模添加细节：详细教程
在游戏制作中，为了在有限的资源下呈现高质量的视觉效果，通常会使用高面数（高模）模型生成的贴图（如法线贴图、光影贴图）应用到低面数（低模）模型上。这种技术可以让低多边形模型表现出高模的细节和质感。下面将详细介绍如何在3ds Max中完成这一过程。
目录
1.理解高模与低模
2.准备高模和低模
3.为低模展开UV
4.烘焙法线贴图
5.烘焙其他贴图
6.在低模上应用贴图
7.优化与测试
8.注意事项
9.结论
理解高模与低模
高模（High Poly Model）：包含大量细节和高面数的模型，用于生成高质量的贴图。
低模（Low Poly Model）：经过优化，面数较少的模型，用于实际的游戏或实时渲染。
目标：通过在低模上应用从高模烘焙的贴图，使低模看起来具有高模的细节和质感。
准备高模和低模
- 创建或导入高模
细节丰富：高模应包含所有需要的细节，如雕刻的纹理、凹凸等。
保持拓扑：确保高模的拓扑结构良好，没有多余的非流形几何。 - 创建低模
拓扑优化：在不影响整体形状的前提下，减少多边形数量。
匹配形状：低模的形状应尽可能贴合高模，以获得最佳的烘焙效果。 - 对齐高模和低模
位置重合：确保高模和低模在空间中的位置、旋转和比例一致。
为低模展开UV - 展开UV
添加Unwrap UVW修改器：
o选择低模，在修改器列表中添加 “Unwrap UVW”。
展开UV：
o在 “Edit UVs” 中，展开模型的UV，避免重叠。
o注意：良好的UV布局可以避免烘焙时的接缝和失真。 - 检查UV
无重叠：确保UV岛之间没有重叠区域。
适当的边缘缝：在适当的位置放置接缝，便于纹理过渡。
烘焙法线贴图 - 添加Projection修改器
选择低模，在修改器列表中添加 “Projection” 修改器。 - 添加高模作为投射对象
在 “Projection” 修改器的参数中，找到 “Reference Geometry”，点击 “Add”，将高模添加进去。 - 设置投射范围（Cage）
调整Cage：
o在 “Cage” 选项中，点击 “Reset”，然后 “Push” 数值稍微调大，使Cage包裹住高模。
手动调整：
o如有需要，可以手动调整Cage的顶点，使其更好地包裹高模。 - 配置Render to Texture
打开Render to Texture面板：
o按 “0” 键，或在菜单中选择 “Rendering” > “Render to Texture”。
选择烘焙对象：
o确保低模被选中。
设置输出贴图：
o在 “Output” 部分，点击 “Add”，选择 “NormalsMap”。
设置贴图参数：
o尺寸：根据需求设置贴图的分辨率，如 2048x2048。
o文件类型：选择合适的格式，如 PNG 或 TGA。
映射通道：
o确保使用正确的UV通道（通常为通道1）。 - 开始烘焙
Hit “Render”：
o点击 “Render” 按钮，开始烘焙法线贴图。
检查结果：
o烘焙完成后，检查法线贴图是否正确，有无异常。
烘焙其他贴图
除了法线贴图，还可以烘焙以下贴图： - 环境光遮蔽贴图（Ambient Occlusion Map）
添加Ambient Occlusion：
o在 “Output” 中，添加 “Ambient Occlusion (MR)”。
设置参数：
o根据需求调整 “Samples” 和 “Spread”。 - 凹凸贴图（Height Map）
添加Height Map：
o在 “Output” 中，添加 “Height Map”。 - 其他贴图
漫反射贴图：用于烘焙颜色信息。
凹凸贴图：捕捉更细微的细节。 - 重复烘焙步骤
配置参数并烘焙：
o与烘焙法线贴图的步骤类似，配置好参数后，点击 “Render”。
在低模上应用贴图 - 创建材质
打开材质编辑器：
o按 “M” 键，或在菜单中选择 “Rendering” > “Material Editor”。
创建新材质：
o选择一个空的材质槽，设置为 “Physical Material” 或 “Standard Material”。 - 应用法线贴图
添加法线贴图节点：
o在材质的 “Bump” 通道，添加 “Normal Bump” 节点。
加载法线贴图：
o在 “Normal Bump” 节点中，加载烘焙的法线贴图。
强度调整：
o根据需要调整 “Bump” 的强度值。 - 应用其他贴图
Ambient Occlusion：
o将环境光遮蔽贴图乘以漫反射贴图，增加阴影细节。
Height Map：
o可以用于 “Displacement” 或进一步增强凹凸效果。 - 赋予材质到低模
应用材质：
o将材质拖拽到低模对象上，或者在 “Assign Material to Selection” 中应用。
优化与测试 - 查看效果
实时渲染：
o在视口中启用 “Realistic” 模式，查看贴图效果。
渲染测试：
o进行快速渲染，检查细节和阴影。 - 调整
修正贴图：
o如发现问题，可能需要重新展开UV或调整Cage。
修改材质参数：
o调整法线贴图的强度、光泽度等参数，优化视觉效果。
注意事项
匹配模型：高模和低模的形状必须尽可能匹配，避免投射错误。
Cage设置：Cage过大或过小都会影响烘焙结果，需要仔细调整。
UV布局：良好的UV布局是成功的关键，避免拉伸和重叠。
贴图尺寸：根据项目需求选择合适的贴图分辨率，平衡质量和性能。
法线方向：确保高模和低模的法线方向一致（全部为外翻）。
结论
通过高模烘焙贴图到低模，可以在保持模型性能的同时，呈现出高质量的细节和质感。这一技术在游戏和实时渲染中广泛应用，是3D艺术家必备的技能之一。掌握这个过程，可以大大提升作品的视觉效果和制作效率。
希望本教程能够帮助您深入理解并应用高模烘焙技术，祝您在3D创作之路上取得更加辉煌的成果！
